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傳三星將採台積電3奈米製程 助輝達打造下一代晶片NVHBM

三星(Samsung)
Photo by Jonathan Kemper on Unsplash

南韓科技大廠 三星電子(Samsung Electronics)傳出將採用台灣晶圓巨頭 台積電(tsmc)的 3 奈米先進製程,為美國人工智慧(AI)晶片大廠 輝達(NVIDIA)下一代客製化高頻寬記憶體(HBM)「NVHBM」生產基礎晶粒(Base Die)。而這也是三星電子首度打破過去自家晶圓廠包辦生產的模式,在製造 HBM 階段導入台積電先進製程技術。

《首爾經濟日報》週日(10月18日)引述產業消息人士指出,輝達已要求記憶體供應商三星電子、SK 海力士(SK Hynix)及美光(Micron),統一採用台積電 3 奈米製程生產新一代「NVHBM」基礎晶粒,並使用第六代「動態隨機存取記憶體」(DRAM)1c 製程製造記憶體核心晶粒。三星電子經過內部評估後,已決定接受輝達的技術要求。

由於三大記憶體廠商的製造技術不同,輝達希望透過統一基礎晶粒製程,來減少產品效能差異,同時降低公司分別驗證各家晶片的成本與時間。

根據輝達今年 8 月公布的官方資料,「NVHBM」是以第七代高頻寬記憶體 HBM4E 架構為基礎的客製化記憶體技術。與傳統 HBM 不同,「NVHBM」將原本位於圖形處理器(GPU)的部分記憶體控制功能,轉移至 HBM 底部的基礎晶粒。這款方法不只能騰出 GPU 空間、增加運算電路,還能提升資料傳輸效率。

此外,「NVHBM」相較於標準版的 HBM4E,記憶體頻寬最高可增加 30%;功率消耗方面則可降低 15%。

不過,三星沒有打算全面放棄自家晶圓代工業務。目前三星已率先量產第六代 HBM4,第七代 HBM4E 則進入量產驗證階段,這 2 款產品的基礎晶粒均採用三星自研的 4 奈米製程。未來標準 HBM 及其他客戶的客製化產品,仍由三星電子自行製造。

不只如此,三星電子也正在評估使用自研的 2 奈米製程,生產「NVHBM」基礎晶粒的可行性,以因應台積電產能供不應求的情況。

事實上,三星電子與台積電 2022 年就曾在 HBM 與 CoWoS(Chip-on-Wafer-on-Substrate)先進封裝技術方面展開合作。當時為了讓自家 HBM 順利整合進輝達等客戶的 AI 晶片中,三星必須調整其 HBM 的物理與電路規格,以配合台積電獨霸市場的 CoWoS 先進封裝平台,雙方的合作內容,主要集中於後段封裝層面的規格相容與訊號連接。

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